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2.光刻機

（1）全球市場規(guī)模

近年來，受到芯片需求增長的影響，光刻機市場規(guī)模穩(wěn)步增長。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年中國光刻機市場調(diào)查與行業(yè)前景預(yù)測專題研究報告》顯示，2024年全球光刻機市場規(guī)模達315億美元，同比增長16.2%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，2026年將達392億美元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

（2）全球光刻機銷量

商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年中國光刻機市場調(diào)查與行業(yè)前景預(yù)測專題研究報告》顯示，2025年全球光刻機銷量約645臺，同比下降。ASML出貨327臺（含48臺EUV），尼康約29臺，佳能約289臺。中國市場占ASML銷售額33%，仍是最大市場。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，到2026年全球光刻機銷量將繼續(xù)增長至680臺。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3.刻蝕機

（1）全球市場規(guī)模

全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場由泛林半導(dǎo)體、東京電子、應(yīng)用材料三巨頭壟斷超80%份額，中國廠商在成熟制程領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破但先進制程仍依賴進口。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030全球及中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)深度研究報告》顯示，2023-2025年全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場規(guī)模從148.2億美元增至164.8億美元，年均復(fù)合增長率約5.5%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，受益于3D NAND擴產(chǎn)及先進制程迭代，2026年全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場規(guī)模將達173.8億美元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

（2）重點企業(yè)分析

刻蝕機行業(yè)的競爭格局呈現(xiàn)出高度集中且競爭激烈的態(tài)勢。全球范圍內(nèi)，以LAMResearch、AMAT和TEL為代表的國際巨頭占據(jù)了市場的主導(dǎo)地位，它們憑借先進的技術(shù)、豐富的產(chǎn)品線和廣泛的客戶群體，在全球刻蝕機市場中占據(jù)了大部分份額。中微公司和北方華創(chuàng)等本土企業(yè)憑借自主研發(fā)和創(chuàng)新能力，逐漸在刻蝕機領(lǐng)域嶄露頭角，成為國內(nèi)刻蝕機行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè)。具體如圖所示：

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理